据DigiTimes报道，荷兰光刻机大厂ASML正在考虑发布其深紫外光刻 (DUV) 设备的特殊版本，以便使得该设备符合美国及荷兰最新的出口规则，并且无需许可证即可运送给中国客户。
报道称，该特别版DUV光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，而NXT:1980Di 是 10 年前推出的旧型号，不在限制范围内。
荷兰政府的对于DUV光刻机的限制要求，是需要同时满足最小可分辨特征尺寸小于或等于45nm和DCO值小于或等于1.50nm这两个条件，因此，ASML的NXT1980系列（分辨率为38纳米左右，但DCO值是小于等于1.6nm）依然可以不受荷兰新规限制，不需要许可就能够向中国出口。
ASML的声明也表示，根据荷兰新的出口管制条例规定，ASML TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统需要向荷兰政府申请出口许可证才能出口，目前有在售NXT1980系列则不受影响。
虽然去年10月美国出台了对华半导体出口限制新规，限制了可以被用于先进制程逻辑芯片及先进存储芯片的美系半导体设备的对华出口。但是，ASML是荷兰设备厂商，并不受该规则影响。
今年1月，ASML CEO彼得·温克宁就曾公开表示，可以不受限地向中国出口DUV光刻机。
或许正因为如此，随后美国方面又开始向荷兰施压，要求荷兰跟进美国的新规，于是在今年7月1日，荷兰正式出台了聚焦于半导体设备的出口限制新规。
但是，荷兰方面的新规也没有限制ASMLNXT1980系列，也就是说NXT1980系列本就符合美国及荷兰的新规，那为何传闻称ASML还要考虑推出面向中国市场的“特供版”NXT 1980系列呢？
从DigiTimes的报道来看，还是纠结于NXT 1980系列有可能制造出先进制程芯片，认为ASML会推出更低分辨率版本的“特供版”NXT1980系列，以避免相关问题。
据芯智讯了解，NXT:1980Di虽然分辨率在38nm左右，但是通过多重曝光，依然可以支持到7nm左右，据说台积电的第一代7nm工艺也是基于 NXT:1980Di 实现的。
但是这样做，步骤更为复杂，对技术要求高，成本也更高，良率可能也会有损失。实际上，目前国内已有的NXT:1980Di 基本都是被用于45nm以下16nm以上的成熟制程的生产。
更何况，正如前面所指出的，ASML现有的NXT 1980系列本就符合美国及荷兰的新规，可以不需要许可即可出口到中国，为什么还需要多此一举针对中国市场推出进一步阉割的NXT 1980版本？完全没必要。纯粹是湾湾的媒体在搞事！
所以，ASML官方也对于这则传闻进行了辟谣。ASML回应称：ASML都遵守所适用的法律条例，公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。
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